中国永嘉德丰阀门

从处理器芯片诞生以来，该领域的高精尖技术就一直掌握在苹果、高通等国外通信巨头的手中。中国长期在芯片制作工艺和核心技术方面受制于外国公司，导致国内企业很难在芯片领域获得真正的话语权，但是这一局面在最近已经被打破。

据相关报道，中国中微半导体研究中心已成功研制出5NM蚀刻机的样机，并决定在今年年底正式敲定原型机。这也就意味着中国半导体企业已经在芯片领域，成功实现了弯道超车，达到国际领先水准，未来的中国将会自主研发芯片，在半导体领域将获得更多的国际话语权。

中国国家半导体研究中心，简称“中国中微”，一直致力于开发国产的生产半导体芯片的等离子蚀刻机。等离子蚀刻机的工作原理是在芯片上进行微观布局和雕刻，通过高技术手段在指甲大小的芯片上，雕刻出又细又深的倒孔和导磁线，每个倒孔和导磁线的精细程度，是头发丝的几千分之一到上万分之一。

打个比方，在米粒上刻字的微雕工艺，一般一粒米上能刻200个字已经是极限了，但等离子蚀刻机在芯片上的微雕，相当于在一粒米上刻10亿个字的水平。拿芯片本身工艺技术来说，以16NM芯片为例，它包含60多层微观结构，要经过1000多个工艺步骤生产，攻克上万个技术细节才能加工完成。可以想象，5NM的芯片所包含的技术要求要达到何种苛刻的程度。

中国中微在刚刚涉足IC芯片蚀刻机领域时，是以做65NM等离子介质蚀刻为主，随着技术的不断成熟。产品也由原先的65NM逐渐变为45NM，再到32NM、28NM，最终在5NM蚀刻机技术上实现华丽转身，一举跃居世界前列。据消息称，中国中微的蚀刻机交付量已经突破500台，单反应台等离子蚀刻机已交付韩国领先的半导体制造商进行商用，而技术要求更高的双反应台介质蚀刻机已经研制成功，这是国内外首次研制成功双反应等离子蚀刻设备。

但是，值得注意的是，中国中微欲打破国外公司芯片垄断面临着严峻的考验。首先，像英特尔、台积电、三星等巨头的上一代芯片10NM技术已经很成熟了，5NM技术只需要度过瓶颈期，立刻就能实现量产，这也是国外巨头在芯片领域的天然优势。另外，芯片的主要制作材料多依赖进口，多晶硅、高纯度溅射金属耙等稀有材料进口受限，虽然去年中国国家电力投资集团，正式推出了国产高纯度电子多晶硅，但还远远不能满足中国每年4500吨的稀缺材料需求量。不过随着科技的进步和中国国力的不断增长，相信在未来中国能够很好的解决稀缺材料的问题，涌现出更多像中国中微这样的高新技术企业，打破国外企业长期垄断的领域，为中国科技的进步注入更加强盛的活力。